LINDA橫浜油脂_MG_無(wú)機(jī)堿性清洗劑
LINDA橫浜油脂_MG_無(wú)機(jī)堿性清洗劑
LINDA橫浜油脂_MG_無(wú)機(jī)堿性清洗劑
LINDA橫浜油脂_MG_無(wú)機(jī)堿性清洗劑
LINDA橫浜油脂_MG_無(wú)機(jī)堿性清洗劑
ガラス基板用洗浄剤
中性洗浄剤
洗浄物に対して影響が少なく、レンズ、光學(xué)部品、精密部品の洗浄にも使用可能。
|
製品名
|
使用溫度
|
使用濃度
|
pH
|
特長(zhǎng)
|
|
M-1
|
常溫～40℃
|
1～10%
|
6.5
(原液)
|
非イオンタイプ。油分、研削剤、塵埃などの汚れを乳化分散、除去。
|
|
M-2
|
常溫～80℃
|
1～10%
|
7.2
(原液)
|
非イオン、アニオン併用タイプ。高溫での洗浄が可能で、優(yōu)れた洗浄力を長(zhǎng)期維持。
|
|
M-4
|
常溫～40℃
|
1～10%
|
8.4
(原液)
|
非イオンタイプ。洗浄力に優(yōu)れ、特に油分に対して強(qiáng)力な洗浄力を発揮。
|
|
M-LO
|
常溫～40℃
|
1～10%
|
6.0
(原液)
|
非イオンタイプ。成分中にイオン性物質(zhì)を含まず、低泡性でブラシ洗浄に使用可能。
|
無(wú)機(jī)アルカリ性洗浄剤
成膜時(shí)の膜の密著性を向上。低泡性でブラシ洗浄に使用可能。
|
製品名
|
使用溫度
|
使用濃度
|
pH
|
特長(zhǎng)
|
|
L.G.L
|
常溫～60℃
|
1～5%
|
11.7
(2%)
|
特殊界面活性剤、特殊キレート剤を配合し高い洗浄力を発揮。
|
|
KG
|
常溫～60℃
|
1～5%
|
11.9
(2%)
|
指紋、オイルミストなどの油分を強(qiáng)力に洗浄し、優(yōu)れたリンス性を発揮。
|
|
RPG-1
|
常溫～50℃
|
1～5%
|
12.2
(2%)
|
分散性が高く、研磨剤などの微小なパーティクル除去に*適。
|
|
NA-1
|
常溫～60℃
|
1～5%
|
12.2
(2%)
|
成分中にリンを含まず、洗浄剤殘?jiān)夂?jiǎn)単に溶解。
|
|
MG
|
常溫～60℃
|
1～5%
|
12.4
(2%)
|
非常に優(yōu)れた洗浄力があり、研磨剤、紙ヤケなどを簡(jiǎn)単に短時(shí)間で除去。
|
|
SD
|
常溫～60℃
|
1～5%
|
12.5
(2%)
|
高い洗浄力があり、特にパーティクルの除去に*適。
|
有機(jī)アルカリ性洗浄剤
成分中にアルカリ金屬を含まず、アルカリ金屬を嫌う部材の洗浄に*適。
|
製品名
|
使用溫度
|
使用濃度
|
pH
|
特長(zhǎng)
|
|
LC-2
|
常溫～60℃
|
2～10%
|
10.4
(10%)
|
高い洗浄力があり、TFT用ガラス基板の受け入れ洗浄に*適。
|
|
MF-2
|
常溫～60℃
|
1～10%
|
12.0
(2%)
|
成膜時(shí)、膜の密著性が向上し、TFT用ガラス基板の成膜前の洗浄に*適。
|
酸性洗浄剤
ガラス基板、レンズ、その他光學(xué)部品、水晶などに付著した研磨剤の除去。
|
製品名
|
使用溫度
|
使用濃度
|
pH
|
特長(zhǎng)
|
|
DS-S
|
常溫～60℃
|
0.5～2%
|
2以下
(1%)
|
有機(jī)酸を使用し、研磨剤、ガラスカレットを強(qiáng)力に除去。
|
アルミ膜基板用洗浄剤
アルミ反射膜、アルミ電極の洗浄。
|
製品名
|
使用溫度
|
使用濃度
|
pH
|
特長(zhǎng)
|
|
A-1
|
常溫～50℃
|
2～5%
|
11.6
(2%)
|
レジスト殘?jiān)浣饘佶ぅ螭胜嗓虺?。低泡性でブラシ洗浄に使用可能?
|
|
A-2
|
常溫～50℃
|
2～5%
|
11.6
(2%)
|
リンス性の優(yōu)れたアルカリタイプ。BOD?CODが低く、排水処理コストを軽減。
|
ポリイミド配向膜用洗浄剤
ラビング後のパーティクルの除去。
|
製品名
|
使用溫度
|
使用濃度
|
pH
|
特長(zhǎng)
|
|
RB-1
|
常溫～60℃
|
5%
|
中性
|
ラビングで生じるパーティクルを除去し、特に優(yōu)れたリンス性を発揮。
|
國(guó)內(nèi)免費(fèi)咨詢(xún)專(zhuān)線：4008-933-365
_無(wú)機(jī)堿性清洗劑
LINDA橫浜油脂_NA-1_無(wú)機(jī)堿性清洗劑
LINDA橫浜油脂_NA-1_無(wú)機(jī)堿性清洗劑
LINDA橫浜油脂_NA-1_無(wú)機(jī)堿性清洗劑
LINDA橫浜油脂_NA-1_無(wú)機(jī)堿性清洗劑
ガラス基板用洗浄剤
中性洗浄剤
洗浄物に対して影響が少なく、レンズ、光學(xué)部品、精密部品の洗浄にも使用可能。
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製品名
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使用溫度
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使用濃度
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pH
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特長(zhǎng)
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M-1
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常溫～40℃
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1～10%
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6.5
(原液)
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非イオンタイプ。油分、研削剤、塵埃などの汚れを乳化分散、除去。
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M-2
|
常溫～80℃
|
1～10%
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7.2
(原液)
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非イオン、アニオン併用タイプ。高溫での洗浄が可能で、優(yōu)れた洗浄力を長(zhǎng)期維持。
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M-4
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常溫～40℃
|
1～10%
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8.4
(原液)
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非イオンタイプ。洗浄力に優(yōu)れ、特に油分に対して強(qiáng)力な洗浄力を発揮。
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M-LO
|
常溫～40℃
|
1～10%
|
6.0
(原液)
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非イオンタイプ。成分中にイオン性物質(zhì)を含まず、低泡性でブラシ洗浄に使用可能。
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無(wú)機(jī)アルカリ性洗浄剤
成膜時(shí)の膜の密著性を向上。低泡性でブラシ洗浄に使用可能。
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製品名
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使用溫度
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使用濃度
|
pH
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特長(zhǎng)
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L.G.L
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常溫～60℃
|
1～5%
|
11.7
(2%)
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特殊界面活性剤、特殊キレート剤を配合し高い洗浄力を発揮。
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KG
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常溫～60℃
|
1～5%
|
11.9
(2%)
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指紋、オイルミストなどの油分を強(qiáng)力に洗浄し、優(yōu)れたリンス性を発揮。
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|
RPG-1
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常溫～50℃
|
1～5%
|
12.2
(2%)
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分散性が高く、研磨剤などの微小なパーティクル除去に*適。
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NA-1
|
常溫～60℃
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1～5%
|
12.2
(2%)
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成分中にリンを含まず、洗浄剤殘?jiān)夂?jiǎn)単に溶解。
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MG
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常溫～60℃
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1～5%
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12.4
(2%)
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非常に優(yōu)れた洗浄力があり、研磨剤、紙ヤケなどを簡(jiǎn)単に短時(shí)間で除去。
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SD
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常溫～60℃
|
1～5%
|
12.5
(2%)
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高い洗浄力があり、特にパーティクルの除去に*適。
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有機(jī)アルカリ性洗浄剤
成分中にアルカリ金屬を含まず、アルカリ金屬を嫌う部材の洗浄に*適。
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製品名
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使用溫度
|
使用濃度
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pH
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特長(zhǎng)
|
|
LC-2
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常溫～60℃
|
2～10%
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10.4
(10%)
|
高い洗浄力があり、TFT用ガラス基板の受け入れ洗浄に*適。
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MF-2
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常溫～60℃
|
1～10%
|
12.0
(2%)
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成膜時(shí)、膜の密著性が向上し、TFT用ガラス基板の成膜前の洗浄に*適。
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酸性洗浄剤
ガラス基板、レンズ、その他光學(xué)部品、水晶などに付著した研磨剤の除去。
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製品名
|
使用溫度
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使用濃度
|
pH
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特長(zhǎng)
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DS-S
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常溫～60℃
|
0.5～2%
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2以下
(1%)
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有機(jī)酸を使用し、研磨剤、ガラスカレットを強(qiáng)力に除去。
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アルミ膜基板用洗浄剤
アルミ反射膜、アルミ電極の洗浄。
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製品名
|
使用溫度
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使用濃度
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pH
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特長(zhǎng)
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|
A-1
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常溫～50℃
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2～5%
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11.6
(2%)
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レジスト殘?jiān)浣饘佶ぅ螭胜嗓虺?。低泡性でブラシ洗浄に使用可能?
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A-2
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常溫～50℃
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2～5%
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11.6
(2%)
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リンス性の優(yōu)れたアルカリタイプ。BOD?CODが低く、排水処理コストを軽減。
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ポリイミド配向膜用洗浄剤
ラビング後のパーティクルの除去。
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製品名
|
使用溫度
|
使用濃度
|
pH
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特長(zhǎng)
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|
RB-1
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常溫～60℃
|
5%
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中性
|
ラビングで生じるパーティクルを除去し、特に優(yōu)れたリンス性を発揮。
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國(guó)內(nèi)免費(fèi)咨詢(xún)專(zhuān)線：4008-933-365
